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Bubble-free high-speed UV nanoimprint lithography using condensable gas with very low global warming potential 使用具有极低全球变暖潜能值的可冷凝气体的无气泡高速UV纳米压印光刻
相关领域
纳米压印光刻
材料科学
紫外线
气泡
平版印刷术
模具
工作(物理)
纳米技术
光电子学
复合材料
制作
机械工程
物理
机械
医学
替代医学
病理
工程类
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| 其它 |
期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Kenta Suzuki; Sung-Won Youn; Hiroshi Hiroshima 出版日期:2016-06-09 |
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