Evolution of lithography-to-etch bias in multi-patterning processes

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标题	Evolution of lithography-to-etch bias in multi-patterning processes
网址	https://doi.org/10.1116/6.0002059
DOI	10.1116/6.0002059 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Prem Panneerchelvam; Ankur Agarwal; Chad M. Huard; Alessandro Vaglio Pret; Antonio Mani; et al 出版日期：2022-09-29
求助人	roclie 在 2026-11-03 17:31:37 发布自北京，悬赏 10 积分
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