Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy intensity modeling of SiNx ultrathin layer grown on Si (100) and Si (111) substrates by N2 plasma treatment

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标题	Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy intensity modeling of SiNx ultrathin layer grown on Si (100) and Si (111) substrates by N2 plasma treatment
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140388
DOI	10.1016/j.tsf.2024.140388 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Hiba Beji; Valentin Develay; Guillaume Monier; L. Bideux; Philip E. Hoggan; et al 出版日期：2024-05-15
求助人	风6497 在 2026-09-04 15:27:39 发布自美国，悬赏 10 积分
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