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![]() 弛豫剂KTa1-xNbxO3晶体中Cu掺杂修饰的有序态、铁电性质、多尺度不均匀性和局域结构
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期刊:Crystal Growth & Design 作者:Jianwei Zhang; D XiaoPing; Jiguang Zhao; Yongsheng Duan; Xiaolei Lv; et al 出版日期:2022-10-16 |
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