| 标题 |
4‐3: Silicon‐Oxide Thin Films Deposited by Plasma‐Enhanced Atomic Layer Deposition for High Mobility Oxide TFT |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:SID Symposium Digest of Technical Papers 作者:Heeyong Lee; Choelmin Jang; Junggon Kim; Myungsoo Huh; Cheollae Roh 出版日期:2025-06-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)