Enhanced plasma resistance of uniform ALD-Y2O3 thin films for chamber components’ coatings

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标题	Enhanced plasma resistance of uniform ALD-Y2O3 thin films for chamber components’ coatings
网址	https://doi.org/10.1116/6.0004256
DOI	10.1116/6.0004256 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Jun-Hyeok Jeon; Sun Gil Kim; Hyun-Mi Kim; H.M. Kim; Chang-Sub Park; et al 出版日期：2025-04-22
求助人	su 在 2026-10-26 15:42:17 发布自上海，悬赏 10 积分
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