Atomic layer deposition of zinc oxide films on lateral high-aspect-ratio test structures using diethylzinc and water as precursors

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标题	Atomic layer deposition of zinc oxide films on lateral high-aspect-ratio test structures using diethylzinc and water as precursors
网址	http://dx.doi.org/10.1116/6.0004982
DOI	10.1116/6.0004982 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Eero Haimi; Anish Philip; Jorge A. Velasco; Feng Gao; Maarit Karppinen; et al 出版日期：2026-03-01
求助人	对镜贴花在 2026-07-16 10:40:40 发布自上海，悬赏 10 积分
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