Unraveling the selective etching mechanism of silicon nitride over silicon dioxide by phosphoric acid: First-principles study

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标题	Unraveling the selective etching mechanism of silicon nitride over silicon dioxide by phosphoric acid: First-principles study
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.149376
DOI	10.1016/j.apsusc.2021.149376 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Soyong Park; Hyunwook Jung; Kyung-Ah Min; Junyeop Kim; Byungchan Han 出版日期：2021-02-24
求助人	青微在 2026-09-01 13:11:44 发布自浙江，悬赏 10 积分
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