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标题
Thickness scaling down to 5 nm of ferroelectric ScAlN on CMOS compatible molybdenum grown by molecular beam epitaxy
网址
DOI
10.1063/5.0136265 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Ding Wang; Ping Wang; Shubham Mondal; Mingtao Hu; Danhao Wang; et al
出版日期:2023
求助人
礼堂丁真 在 2026-02-02 18:48:33 发布自浙江,悬赏 10 积分
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