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 Phosphorus‐Doped Polycrystalline Silicon via LPCVD: I . Process Characterization 通过LPCVD的磷掺杂多晶硅：I。工艺表征
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：B.S. Meyerson; William L. Olbricht 出版日期：1984-10-01 |
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