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 Study of recrystallization and activation processes in thin and highly doped silicon-on-insulator layers by nanosecond laser thermal annealing 高掺杂绝缘体上硅薄膜的纳秒激光热退火再结晶和活化过程研究
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：N. Chery; M. Zhang; R. Monflier; N. Mallet; G. Seine; et al 出版日期：2022-02-10 |
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