| 标题 |
Repetitive One-Tenth Micron Pattern Fabrication Using An EB Block Exposure System 使用EB块曝光系统的重复十分之一微米图案制造
相关领域
德拉姆
图像拼接
抵抗
制作
光学
校准
偏转(物理)
材料科学
块(置换群论)
电容器
光电子学
物理
电气工程
数学
工程类
纳米技术
电压
统计
几何学
医学
病理
替代医学
图层(电子)
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Akio Yamada; Kiichi Sakamoto; Satoru Yamazaki; K Kobayashi; Satoru Sagoh; et al 出版日期:1994-12-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|