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Field Effect Depletion Regions exploiting different Qox polarities for Interface Passivation in High-Resistivity Silicon Substrates |
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期刊:2023 International VLSI Symposium on Technology, Systems and Applications (VLSI-TSA/VLSI-DAT) 作者:M. Moulin; T. Fache; M. Rack; C. Plantier; J. Lugo; et al 出版日期:2023-06-01 |
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