Infrared spectroscopic study of SiOx films produced by plasma enhanced chemical vapor deposition

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标题	Infrared spectroscopic study of SiOx films produced by plasma enhanced chemical vapor deposition
网址	https://doi.org/10.1116/1.573833
DOI	10.1116/1.573833 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：P. G. Pai; S. S. Chao; Y. Takagi; G. Lucovsky 出版日期：1986
求助人	司佳雨在 2026-04-20 20:03:22 发布自吉林，悬赏 10 积分
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