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 Photoinduced Generation of (Boryl)Silyl and (Chloro)Silyl Radicals: Access to Trisubstituted Silylboranes and Chlorosilanes 相关领域
激进的
硅氢加成
化学
光化学
组合化学
限制
键裂
氧化还原
化学合成
硅烷化
光催化
反应机理
反应条件
范围（计算机科学）
反应中间体
有机化学
有机合成
原位
劈理（地质）
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| 其它 |
期刊：Angewandte Chemie International Edition 作者：Mone Suzuki; Yuki Nagashima 出版日期：2026-02-17 |
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