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Polarization-insensitive bifocal metalenses by combining nanoimprint lithography and atomic layer deposition in the visible spectrum 纳米压印光刻和可见光谱原子层沉积相结合的偏振不敏感双焦点金属透镜
相关领域
纳米压印光刻
材料科学
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光电子学
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Xu Mao; Gang Yu; Fuhua Yang; Xiaodong Wang 出版日期:2024-11-18 |
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