| 标题 |
Systematic studies on reactive ion etch-induced deformations of organic underlayers |
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| DOI |
10.1117/12.879442
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期刊:Advanced Lithography 作者:M. Glodde; S. Engelmann; M. Guillorn; S. Kanakasabapathy; E. Mclellan; et al 出版日期:2011-03-17 |
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(2025-6-4)