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标题
Demonstration of Robust Breakdown Reliability and Enhanced Endurance in Gallium Doped HfO2 Ferroelectric Thin Films
镓掺杂HfO2铁电薄膜抗击穿可靠性和耐久性的证明
相关领域
铁电性 电容器 电介质 材料科学 分析化学(期刊) 物理 光电子学 量子力学 化学 有机化学 电压
网址
DOI
10.1109/led.2023.3299728 doi
其它 期刊:IEEE Electron Device Letters
作者:Teng Huang; Yuchun Li; C. Chen; Xiaoxi Li; Ze-Yu Gu; et al
出版日期:2023-07-28
求助人
硬撑着罢了 在 2025-03-16 11:21:40 发布自北京,悬赏 10 积分
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