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![]() 镓掺杂HfO2铁电薄膜抗击穿可靠性和耐久性的证明
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Teng Huang; Yuchun Li; C. Chen; Xiaoxi Li; Ze-Yu Gu; et al 出版日期:2023-07-28 |
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