Interface Trap Characterization in Junctionless Forksheet FET at Sub-3 nm Technology Node: A Reliability Assessment on Digital, Analog/RF, and Circuit Applications

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标题	Interface Trap Characterization in Junctionless Forksheet FET at Sub-3 nm Technology Node: A Reliability Assessment on Digital, Analog/RF, and Circuit Applications 亚3 nm技术节点无结叉片场效应晶体管的界面陷阱表征：数字、模拟/RF和电路应用的可靠性评估相关领域表征（材料科学）可靠性（半导体）接口（物质）材料科学电气工程节点（物理）存水弯（水管）光电子学电子工程电路可靠性计算机科学工程类纳米技术物理功率（物理）结构工程量子力学毛细管数环境工程毛细管作用复合材料
网址	https://doi.org/10.1109/tdmr.2024.3516084
DOI	10.1109/tdmr.2024.3516084 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Device and Materials Reliability 作者：Gowthami Ryali; Bala Subrahmanyam Pitchuka; Venkata Ramakrishna Kotha; Sresta Valasa; Sunitha Bhukya; et al 出版日期：2024-01-01
求助人	华hgger 在 2025-05-22 21:14:10 发布自山西，悬赏 10 积分
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