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  Water-rich conditions during titania atomic layer deposition in the 100 °C-300 °C temperature window produce films with TiIV oxidation state but large H and O content variations 在100℃-300℃温度窗口中二氧化钛原子层沉积期间的富水条件产生具有TiIV氧化态但H和O含量变化大的薄膜
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期刊：Applied Surface Science 作者：Bingbing Xia; Jean‐Jacques Ganem; I. Vickridge; Emrick Briand; S Steydli; et al 出版日期：2022-07-19 |
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隐形曼青
在
2025-06-10 12:21:35 发布，悬赏 10 积分
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(2025-6-4)
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