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标题
Optimizing Photoresist Strip to reduce fluorine outgassing causing bubble defect
优化光刻胶条减少氟脱气导致气泡缺陷
相关领域
光刻胶 放气 材料科学 薄脆饼 气泡 氟 退火（玻璃） 氧化物 硅 形成气体 兴奋剂 纳米技术 复合材料 光电子学 图层（电子） 化学 冶金 有机化学 并行计算 计算机科学
网址
https://doi.org/10.1109/asmc54647.2022.9792491
DOI
10.1109/asmc54647.2022.9792491 doi
其它 期刊：
作者：Yujie Xiao; Shuhong Sun; Ghit Guan Goh; Guanyu Zhou; Kim Foong Kong
出版日期：2022-05-02
求助人
缥缈傲南 在 2025-06-11 13:34:35 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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