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  CuOX thin films by direct oxidation of Cu films deposited by physical vapor deposition 相关领域
电阻率和电导率
铜
氧化物
薄膜
大气温度范围
氧化铜
材料科学
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期刊：Results in Physics 作者：D. Santos-Cruz; S.A. Mayén-Hernández; F. de Moure-Flores; J. Campos-Álvarez; Mou Pal; J. Santos-Cruz 出版日期：2017-10-23 |
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