Development of an intra-level mix-and-match lithography process using negative-tone photoresist AR-N 4400-10 S4 to combine i-line stepper and electron beam exposure

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标题	Development of an intra-level mix-and-match lithography process using negative-tone photoresist AR-N 4400-10 S4 to combine i-line stepper and electron beam exposure
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3066030
DOI	10.1117/12.3066030 doi
求助人	jingshanhai 在 2026-03-28 17:08:00 发布自安徽，悬赏 40 积分
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