标题 |
Extend 0.33 NA extreme ultraviolet single patterning to pitch 28-nm metal design by low-n mask
用低n掩模扩展0.33 NA极紫外单一图案化到28 nm金属结构
相关领域
进程窗口
平版印刷术
材料科学
极端紫外线
薄脆饼
极紫外光刻
临界尺寸
抵抗
多重图案
遮罩(插图)
光学
二进制数
光学(聚焦)
焦点深度(构造)
紫外线
光刻
光电子学
纳米技术
物理
数学
激光器
艺术
古生物学
算术
图层(电子)
俯冲
生物
视觉艺术
构造学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of micro-nanopatterning, materials, and metrology 作者:Dongbo Xu; Werner Gillijns; Ling Ee Tan; David Río; Max Delorme; et al 出版日期:2022-11-25 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|