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 Electron Beam Lithography with Carboxylate‐Modified TiO 2 Nanoparticles for Sub‐20 nm Features 相关领域
材料科学
光刻胶
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纳米技术
纳米颗粒
纳米材料
制作
锐钛矿
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电子束光刻
X射线光电子能谱
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光刻
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期刊：Small Methods 作者：Shicui Xing; Dong Wang; Zhipeng Fan; Xu Wang; Wenbing Kang; et al 出版日期：2026-01-15 |
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