Understanding the contributions of F–, HF, and HF2– to the etching of SiO2 and unveiling the reaction kinetics to represent etching behavior of SiO2 up to pH 5

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标题	Understanding the contributions of F–, HF, and HF2– to the etching of SiO2 and unveiling the reaction kinetics to represent etching behavior of SiO2 up to pH 5
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.159829
DOI	10.1016/j.apsusc.2024.159829 doi
求助人	安详书萱在 2026-09-02 16:28:54 发布自湖北，悬赏 10 积分
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European Review for Medical and Pharmacological Sciences

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