Back-End-of-Line-Compatible Low-Voltage Operation in Hf0.5Zr0.5O2 Ferroelectric Film Enabled by in-situ Lanthanum Doping

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标题	Back-End-of-Line-Compatible Low-Voltage Operation in Hf0.5Zr0.5O2 Ferroelectric Film Enabled by in-situ Lanthanum Doping
网址	https://doi.org/10.1093/nsr/nwag049
DOI	10.1093/nsr/nwag049 doi
其它	期刊：National Science Review 作者：Yinchi Liu; Kangli Xu; Shuqi Tang; Handong Zhu; Lin Chen; et al 出版日期：2026
求助人	FZR 在 2026-02-09 11:52:59 发布自江苏，悬赏 10 积分
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