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Effect of annealing treatment on the 386 nm and 388 nm emission peaks in unintentionally doped 4H-SiC epilayer
退火处理对无意掺杂4H-SiC外延层386nm和388nm发射峰的影响
相关领域
退火（玻璃） 材料科学 光致发光 兴奋剂 杂质 等温过程 大气温度范围 分析化学（期刊） 活化能 光电子学 复合材料 热力学 化学 物理化学 物理 有机化学 色谱法
网址
https://doi.org/10.7498/aps.60.017103
DOI
10.7498/aps.60.017103 doi
其它 期刊：Chinese Physics
作者：Ping Cheng; Yuming Zhang; Yimen Zhang
出版日期：2011-01-01
求助人
PurityL 在 2025-12-22 14:40:56 发布自福建，悬赏 20 积分
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