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 Comparison of the structural properties and residual stress of AlN films deposited by dc magnetron sputtering and high power impulse magnetron sputtering at different working pressures 相关领域
高功率脉冲磁控溅射
材料科学
残余应力
溅射沉积
溅射
腔磁控管
薄膜
复合材料
光电子学
冶金
纳米技术
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期刊：Thin Solid Films 作者：K. Ait Aissa; Amine Achour; J. Camus; L. Le Brizoual; Pierre-Yves Jouan; et al 出版日期：2013-11-21 |
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