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标题
Heterojunction channel engineering for enhanced mobility and stability of solution-processed holmium-doped indium oxide thin film transistors
提高溶液处理掺钬氧化铟薄膜晶体管迁移率和稳定性的异质结沟道工程
相关领域
材料科学 异质结 薄膜晶体管 光电子学 电子迁移率 兴奋剂 阈值电压 氧化物 晶体管 场效应 波段图 图层(电子) 纳米技术 电压 电气工程 冶金 工程类
网址
DOI
10.1016/j.mssp.2024.108776 doi
其它 期刊:Materials Science in Semiconductor Processing
作者:Zeneng Deng; Zhihao Liang; Yuexin Yang; Qiannan Ye; Honglong Ning; et al
出版日期:2024-08-08
求助人
腊梅 在 2025-06-01 09:50:31 发布,悬赏 10 积分
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