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 Measurement results of substrate bias dependency on Negative Bias Temperature Instability degradation in a 65 nm process 65nm工艺中衬底偏压对负偏压温度不稳定性退化依赖性的测量结果
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负偏压温度不稳定性
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期刊： 作者：Syuichi Tanihiro; Michitarou Yabuuchi; Kazutoshi Kobayashi 出版日期：2012-12-01 |
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