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标题
Shape modulation due to sub-surface damage difference on N-type 4H–SiC wafer during lapping and polishing
N型4H-SiC晶片研磨抛光过程中亚表面损伤差异引起的形状调制
相关领域
研磨 薄脆饼 材料科学 抛光 化学机械平面化 复合材料 残余应力 平坦度（宇宙学） 扫描电子显微镜 光电子学 光学 物理 宇宙学 量子力学
网址
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2022.107124
DOI
10.1016/j.mssp.2022.107124 doi
其它 期刊：Materials Science in Semiconductor Processing
作者：Fenglin Guo; Chen Shao; Xiufang Chen; Xiejian Xie; Xianglong Yang; et al
出版日期：2022-12-01
求助人
NOIR4LU 在 2025-04-17 19:35:41 发布自湖北，悬赏 10 积分
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