Improved amorphous/crystalline silicon interface passivation by hydrogen plasma treatment

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标题	Improved amorphous/crystalline silicon interface passivation by hydrogen plasma treatment 氢等离子体处理改善非晶/晶硅界面钝化相关领域钝化材料科学薄脆饼非晶硅硅化学气相沉积异质结光电子学远程等离子体等离子体开路电压晶体硅等离子体增强化学气相沉积无定形固体氢薄膜纳米技术电压图层（电子）化学电气工程结晶学物理工程类有机化学量子力学
网址	https://doi.org/10.1063/1.3641899
DOI	10.1063/1.3641899 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Antoine Descoeudres; Loris Barraud; Stefaan De Wolf; B. Strahm; D. Lachenal; et al 出版日期：2011-09-19
求助人	江哥在 2025-06-23 17:17:16 发布自江苏，悬赏 10 积分
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