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  Improved amorphous/crystalline silicon interface passivation by hydrogen plasma treatment 氢等离子体处理改善非晶/晶硅界面钝化
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Antoine Descoeudres; Loris Barraud; Stefaan De Wolf; B. Strahm; D. Lachenal; et al 出版日期：2011-09-19 |
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