| 标题 |
(Invited) Novel Surface Reactions in Low-Temperature Regime for High-Aspect-Ratio Dielectric Etching (邀请)用于高纵横比电介质蚀刻的低温区新型表面反应
相关领域
纵横比(航空)
电介质
材料科学
蚀刻(微加工)
曲面(拓扑)
纳米技术
工程物理
复合材料
光电子学
几何学
物理
数学
图层(电子)
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者:Masanobu Honda; Ryutaro Suda; Koki Tanaka; Masahiko Yokoi; Maju Tomura; et al 出版日期:2023-12-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|