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Conformality of remote plasma-enhanced atomic layer deposition processes: An experimental study
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网址
https://doi.org/10.1116/1.3659699
DOI
10.1116/1.3659699 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Maarit Kariniemi; Jaakko Niinistö; Marko Vehkamäki; Marianna Kemell; Mikko Ritala; et al
出版日期：2011-11-11
求助人
okiya 在 2025-11-08 11:29:44 发布自天津，悬赏 10 积分
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