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标题
Alumina layers deposited by atomic layer deposition with different precursors: Surface photovoltage measurements
通过原子层沉积与不同前体沉积的氧化铝层：表面光电压测量
相关领域
原子层沉积 沉积（地质） 钝化 薄脆饼 表面光电压 图层（电子） 材料科学 化学工程 分析化学（期刊） 化学 光电子学 纳米技术 环境化学 光谱学 沉积物 物理 工程类 生物 古生物学 量子力学
网址
https://doi.org/10.1016/j.microrel.2023.115075
DOI
10.1016/j.microrel.2023.115075 doi
其它 期刊：Microelectronics Reliability
作者：Vl. Kolkovsky; Pauline Dill
出版日期：2023-10-01
求助人
louxinliang 在 2025-07-23 14:22:38 发布自江苏，悬赏 10 积分
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