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 Effect of UHV annealing on morphology and roughness of sputtered Si(1 1 1)-(7 × 7) surfaces 超高压退火对溅射Si（1 1 1）-（7 × 7）表面形貌和粗糙度的影响
相关领域
退火（玻璃）
表面光洁度
形态学（生物学）
材料科学
表面粗糙度
冶金
纳米技术
复合材料
地质学
古生物学
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| 其它 |
期刊：Journal of Crystal Growth 作者：J. C. Mahato; Anupam Roy; R. Batabyal; Debolina Das; Rahul Gorain; et al 出版日期：2025-01-01 |
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dr.du
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2025-08-30 11:45:36 发布，悬赏 10 积分
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