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Low temperature radical initiated hydrosilylation of silicon quantum dots 低温自由基引发硅量子点的硅氢化反应
相关领域
硅氢加成
硅
材料科学
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工程类
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期刊:Faraday Discussions 作者:Timothy T. Koh; Tingting Huang; J. Schwan; Pan Xia; Sean T. Roberts; et al 出版日期:2020-01-01 |
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