Effects of Oxygen Plasma Treatment on Fermi‐Level Pinning and Tunneling at the Metal–Semiconductor Interface of WSe 2 FETs

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标题	Effects of Oxygen Plasma Treatment on Fermi‐Level Pinning and Tunneling at the Metal–Semiconductor Interface of WSe 2 FETs
网址	http://dx.doi.org/10.1002/aelm.202200955
DOI	10.1002/aelm.202200955 doi
其它	期刊：Advanced Electronic Materials 作者：Kwangro Lee; Tien Dat Ngo; Sungwon Lee; Hoseong Shin; Min Sup Choi; et al 出版日期：2023-01-22
求助人	cangye 在 2026-10-10 11:06:06 发布自中国，悬赏 10 积分
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