Enabling large ferroelectricity and excellent reliability for ultra-thin hafnia-based ferroelectrics with a W bottom electrode by inserting a metal-nitride diffusion barrier

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标题	Enabling large ferroelectricity and excellent reliability for ultra-thin hafnia-based ferroelectrics with a W bottom electrode by inserting a metal-nitride diffusion barrier
网址	https://pubs.aip.org/aip/apl/article-pdf/doi/10.1063/5.00726...
DOI	10.1063/5.0072692 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Minki Kim; Youngin Goh; Junghyeon Hwang; Sanghun Jeon 出版日期：2021-12-29
求助人	明理不悔在 2026-10-14 18:32:46 发布自福建，悬赏 10 积分
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