| 标题 |
Improving the ferroelectric properties of Lu doped Hf0.5Zr0.5O2 thin films by capping a CeO x layer |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Nanotechnology 作者:Yongguang Xiao; Lisha Yang; Yong Jiang; Siwei Liu; Gang Li; et al 出版日期:2024-06-27 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人或该文件上传人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)