| 标题 |
Characteristics of High-Order Silane Based Si and Sige Epitaxial Growth Under 600°C |
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| DOI |
10.2139/ssrn.4615575
doi
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期刊: 作者:Dongmin Yoon; Hyerin Shin; Seokmin Oh; Chunghee Jo; Kiseok Lee; et al 出版日期:2023-10-28 |
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(2025-6-4)