Impact of film properties of atomic layer deposited HfO2 resulting from annealing with a TiN capping layer

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标题	Impact of film properties of atomic layer deposited HfO2 resulting from annealing with a TiN capping layer
网址	http://dx.doi.org/10.1063/1.2357032
DOI	10.1063/1.2357032 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：D. H. Triyoso; P. J. Tobin; B. E. White; R. Gregory; X. D. Wang 出版日期：2006-09-25
求助人	面朝大海在 2026-09-29 03:33:19 发布自北京，悬赏 10 积分
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