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 Plasma etching of gently sloped mesa with controllable sidewall curvature for enhancing junction termination breakdown voltage of GCT cells 相关领域
材料科学
梅萨
蚀刻（微加工）
曲率
等离子体
光电子学
击穿电压
电压
复合材料
等离子体刻蚀
电击穿
高压
光学
电极
兴奋剂
雕刻
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Ningfei Sun; Rui Liu; Xiaoguang Wei; Ling Li; Caiping Wan; et al 出版日期：2026-06-05 |
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