Numerical optimization of dielectric properties to achieve process uniformity in capacitively coupled plasma reactors

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标题	Numerical optimization of dielectric properties to achieve process uniformity in capacitively coupled plasma reactors
网址	http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/ad171d
DOI	10.1088/1361-6595/ad171d doi
其它	期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Ho Jun Kim; Kyungjun Lee; Hwanyeol Park 出版日期：2024-01-01
求助人	Mzuser 在 2026-10-12 12:38:24 发布自伊朗，悬赏 10 积分
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