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Combined effects of the deposition temperature and metal electrodes on ferroelectric properties of atomic-layer-deposited Hf0.5Zr0.5O2 films
沉积温度和金属电极对原子层沉积Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜铁电性能的综合影响
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AI识别 10.1088/1361-6463/acaf0a doi
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kawhi 在 2024-02-07 18:04:23 发布自广东,悬赏 10 积分
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