Technology and applications of broad-beam ion sources used in sputtering. Part I. Ion source technology

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标题	Technology and applications of broad-beam ion sources used in sputtering. Part I. Ion source technology
网址	http://dx.doi.org/10.1116/1.571819
DOI	10.1116/1.571819 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science and Technology 作者：H. R. Kaufman; J. J. Cuomo; J. M. E. Harper 出版日期：1982-09-01
求助人	雷老板在 2026-09-17 10:50:45 发布自上海，悬赏 10 积分
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