E-beam lithography using dry powder resist of hydrogen silsesquioxane having long shelf life

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标题	E-beam lithography using dry powder resist of hydrogen silsesquioxane having long shelf life
网址	http://dx.doi.org/10.1116/1.5079657
DOI	10.1116/1.5079657 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 作者：Jiashi Shen; Ferhat Aydinoglu; Mohammad Soltani; Bo Cui 出版日期：2019-02-12
求助人	还单身的绮梅在 2026-07-14 16:29:55 发布自上海，悬赏 10 积分
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