Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process

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标题	Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process
网址	https://doi.org/10.1063/1.1940727
DOI	10.1063/1.1940727 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Riikka L. Puurunen 出版日期：2005-06-15
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