Impact of Stress and Dimension on Nanosheet Deformation during Channel Release of Gate-All-Around Device

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标题	Impact of Stress and Dimension on Nanosheet Deformation during Channel Release of Gate-All-Around Device
网址	https://doi.org/10.3390/mi14030611
DOI	10.3390/mi14030611 doi
其它	期刊：Micromachines (Basel) 作者：Yang J, Chen K, Wang D, Liu T, Sun X, Wang Q, Huang Z, Pan Z, Xu S, Wang C, Wu C, Xu M, Zhang DW 出版日期：2023-03-07
求助人	Hamil 在 2026-09-22 22:36:59 发布自美国，悬赏 10 积分
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